Tapaslik foar Passat fuel common rail druk sensor 06E906051K

1. Metoade foar it foarmjen fan in druksensor, besteande út:

It jaan fan in semiconductor substraat, wêrby't in earste interlayer dielectric laach, in earste interlayer dielectric laach en in twadde interlayer dielectric laach wurde foarme op de semiconductor substraat.

In legere elektrodes plaat yn de earste interlayer dielectric laach, in earste ûnderlinge elektrodes leit op deselde laach as de legere elektrodes plaat en spaced apart.

ferbinende lagen;

It foarmjen fan in offerlaach boppe de legere poalplaat;

It foarmjen fan in boppeste elektrodesplaat op 'e earste interlayer dielectric laach, de earste interconnection laach en de offerlaach;

Nei it foarmjen fan de offerlaach en foar it foarmjen fan de boppeste plaat, yn 'e earste ferbiningslaach

It foarmjen fan in ferbining Groove, en it foljen fan de ferbining Groove mei de boppeste plaat om elektrysk te ferbinen mei de earste interconnection laach;Of,

Nei it foarmjen fan de boppeste elektrodesplaat wurde ferbinende groeven foarme yn 'e boppeste elektrodesplaat en de earste ferbiningslaach, dy't

It foarmjen fan in conductive laach ferbinen de boppeste elektrodes plaat en de earste interconnection laach yn de ferbining Groove;

Nei it elektrysk ferbinen fan de boppeste plaat en de earste interconnection laach, it fuortheljen fan de offerlaach te foarmjen in holte.

2. De metoade foar it foarmjen fan in druk sensor neffens claim 1, wêrby't yn 'e earste laach

De metoade foar it foarmjen fan de opofferjende laach op 'e interlayer diëlektryske laach omfettet de folgjende stappen:

Deponearje in opofferjende materiaal laach op de earste interlayer dielectric laach;

It patroan fan de offermateriaallaach om in offerlaach te foarmjen.

3. De metoade foar it foarmjen fan de druksensor neffens claim 2, wêrby't fotolitografy en gravuere wurde brûkt.

De laach fan offermateriaal wurdt patroon troch etsproses.

4. De metoade foar it foarmjen fan in druk sensor neffens claim 3, wêrby't de offerlaach

It materiaal is amorf koalstof of germanium.

5. De metoade foar it foarmjen fan in druk sensor neffens claim 4, wêrby't de offerlaach

It materiaal is amorphous koalstof;

Etsgassen dy't brûkt wurde yn it proses fan it etsen fan 'e offermateriaallaach omfetsje O2, CO, N2 en Ar;

De parameters yn it proses fan it etsen fan 'e laach fan offermateriaal binne: it streamberik fan O2 is 18 SCCM ~ 22 SCCM, en de trochstreaming fan CO is 10%.

De trochstreaming rint fan 90 SCCM oan 110 SCCM, de trochstreaming fan N2 farieart fan 90 SCCM oant 110 SCCM, en de trochstreaming fan Ar.

It berik is 90 SCCM ~ 110 SCCM, it drukberik is 90 mtor ~ 110 mtor, en de biaskrêft is

540w oant 660w.